极紫外光刻

电脑知识网1月24日消息，据国内媒体报道称，荷兰首相斯霍夫日前接受采访时表示，在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。
“美国拜登政府就限制阿斯麦对华出口先进芯片制造设备向荷兰政府施加了

美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。
该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳（CO2）激光器的 10 倍

电脑知识网1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定基础。
据报道，LLNL正在研发的是一种拍瓦级（petawatt-class）铥激

电脑知识网1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定基础。
据报道，LLNL正在研发的是一种拍瓦级（petawatt-class）铥激