极紫外光刻
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美国官方投资EUV初创企业xLight:1000W功率 4倍于ASML光刻机
电脑知识网12月2日消息,EUV技术对5nm以下的先进工艺已经必不可少,全球唯一能生产EUV光刻机的只有荷兰ASML,美国现在也在这个领域加大了投资,官方下场投资了一家初创企业。 …
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打破ASML垄断!神秘公司宣布光刻新技术:号称可媲美EUV光刻机
电脑知识网11月2日消息,美国半导体初创企业Substrate近期抛出重磅消息,宣称已研发出基于X光的新型曝光技术,其解析度能与荷兰ASML最先进的EUV光刻机匹敌,而后者单台造价…
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EUV工艺功臣要去Intel 台积电发愁:若美国介入很难办
电脑知识网11月1日消息,前几天网络曝出台积电21年资深高管罗唯仁要跳槽去Intel公司的消息,虽然他已经于7月份从台积电退休,但此事依然引发业界关注。 究其原因,就是罗唯仁虽然已…
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全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动
电脑知识网9月8日消息,EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备,同样重要的还有EUV光刻胶,现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。 来自无锡政府网站的消息,…
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清华大学官宣!EUV光刻胶材料取得重要进展
电脑知识网7月24日消息,据清华大学官网介绍,日前,清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻材料上取得重要进展,开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶,为先进半导体制造中的关…
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High-NA EUV遇冷!晶圆厂减少依赖:推迟导入时间
电脑知识网7月2日消息,据媒体报道,2023年末ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机,业界普遍认为,High-NA EUV光刻技术将在先进芯片开发和下一代处理器的…
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另辟蹊径!不用EUV光刻机也能做出5nm
电脑知识网5月30日消息,大家都知道,当下先进工艺(尤其是7nm以下),基本都依赖ASML的EUV极紫外光刻机。 按照传统认知,没有EUV就造不出先进工艺,那有没有其他办法呢。 前…
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Intel前CEO基辛格找到新工作:开发FEL EUV极紫外光刻 成本大降2/3
电脑知识网4月14日消息,Intel前任CEO帕特·基辛格已经找到了新工作!本人亲自宣布,已经加盟xLight担任执行董事长。 xLight是一家半导体行业创业公司,…
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荷兰要摆脱美国管制!ASML想怎么卖给中国厂商光刻机就怎么卖
电脑知识网1月24日消息,据国内媒体报道称,荷兰首相斯霍夫日前接受采访时表示,在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上,荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。
“美国拜登政府就限制阿斯麦对华出口先进芯片制造设备向荷兰政府施加了 
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美国研发新型BAT激光器:EUV光刻能源效率提升10倍!
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,旨在为极紫外 (EUV) 光刻技术的下一步发展奠定基础。
该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳(CO2)激光器的 10 倍