光刻机
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事关光刻机!新型部件或重塑系统:光源效率有望提升10倍
《科创板日报》1月7日讯 尽管目前最先进的光刻机已经可以用于生产2nm芯片,但科学家仍在持续探索以进一步提升光刻机的综合性能,用于产生光源的激光器或成下一个突破口。
近日,据Toms Hardware报道,美国实验室正在开发一种拍瓦(一种功 -
曾狂言华为不可能追上!台积电年底将引进High NA EUV光刻机:25亿元/台
电脑知识网11月3日消息,据国外媒体报道称,台积电将于今年年底从荷兰供应商ASML接收首批全球最先进的芯片制造机器,仅比美国竞争对手英特尔晚几个月。 高数值孔径极紫外(High N…