纳米工艺

近日，日本印刷株式会社（DNP）宣布，成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（NIL）光刻模板，可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化，可以满足智能手机、数据中心以及N…

电脑知识网7月15日消息，近日，中国科学院发布重大科研成果：研发团队成功制备出一种新型纳米涂层材料——“高熵铠甲”。 该材料应用于煤…

电脑知识网2月28日消息，在当今科技飞速发展的时代，光学计算领域迎来了一项重大突破。
美国劳伦斯·伯克利实验室、哥伦比亚大学和西班牙马德里自治大学的联合团队在《自然·光子学》杂志上发表了一项令人瞩目的成果。
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